Prix FOB
Obtenir le dernier prix100 ~ 330 / Piece ( Negotiable )
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Pays:
China
N ° de modèle:
-
Prix FOB:
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Localité:
-
Prix de commande minimale:
100 per Piece
Commande minimale:
1 Piece
Packaging Detail:
Vacuum packing
Heure de livraison:
20days
Capacité de Fournir:
-
Payment Type:
T/T, L/C, D/A, D/P, Western Union
Groupe de produits :
-
Personne àcontacter Mr. Eric
Xinyi Street, Xinxiang, Henan
Ti*0Cr*0 sputtering target
TiCr, TiAl, TiNi,
NiV , *9.*9%Ti, *9.**5%Ti , *9.*9Ni, Al ,Nb, Cr*9.*5%
Â
Round target,
Dia.*****0mm
Thickness ****0mm
Plate target,
Length ******0mm
Width *****0mm
Thickness ****0mm
For use in semiconductor,chemical vapor deposition(CVD) and
physical vapor deposition(PVD),display and optical applications
| Pays: | China |
| N ° de modèle: | - |
| Prix FOB: | 100 ~ 330 / Piece ( Negotiable ) Obtenir le dernier prix |
| Localité: | - |
| Prix de commande minimale: | 100 per Piece |
| Commande minimale: | 1 Piece |
| Packaging Detail: | Vacuum packing |
| Heure de livraison: | 20days |
| Capacité de Fournir: | - |
| Payment Type: | T/T, L/C, D/A, D/P, Western Union |
| Groupe de produits : | - |
